真空磁控濺射鍍膜機是一種高效、環保的鍍膜設備，主要特點是體積小、結構簡單緊湊且易于操作，對實驗室供電要求低。這種設備主要部件采用進口或國內優質配置，從而提高設備的穩定性。自主開發的智能操作系統在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。小型真空磁控濺射鍍膜機有多種不同配置可供選擇，包括基本型、旗艦型、豪華型、尊享型，可以根據客戶的不同需求進行靈活配置。標配包括2只Φ2英寸永磁靶和一臺500W直流濺射電源，主要用于開發納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。

該設備作為一種高效、環保的鍍膜方法，在多個領域都有廣泛的應用。例如，在材料科學領域中，可用于制備各種功能薄膜材料，如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等；在電子工業領域中，可用于制備電子元器件的薄膜電極、導電膜等；在光學領域中，可用于制備光學薄膜、增透膜、反射膜等；在裝飾領域中，可用于制備各種美觀且耐腐蝕的鍍膜裝飾材料。隨著科技的不斷發展，小型桌面式磁控濺射儀的應用領域將會越來越廣泛。