化工自動化中常用的三種基本控制規律(或作用方式):①比例作用(P),控制器輸出的變化與偏差的變化成正比。偏差越大,控制效果越強??蓡为氂糜诨ぶ?,如液位控制,不要求嚴格消除殘留偏差的場合。②積分作用(I),控制器輸出的變化率與偏差成正比。偏差存在的時間越長,控制作用越強。該控制功能主要用于需要消除殘留偏差的場合,但在化工行業中很少單獨使用。(3)差動作用(D)??刂破鞯妮敵雠c偏差的變化率成比例。它用于需要加速調整過程的情況, 并且在化學工業中不單獨使用。常用的控制律往往是比例作用和其他作用的組合。比如比例積分(PI)中常用的一般參數(如流量)的控制;對慣性大的對象(如溫度、成分)控制常見的比例積分微分作用(PID)。